ASML 暴跌 7%！中國啟動國產 DUV 晶片機量產

一家中國國有背景企業已開始量產浸潤式 DUV 微影設備，導致 ASML 股價暴跌超過 7%，並引發市場對這家荷蘭公司最後一條中國營收來源的質疑。

此項進展由《The Information》週一率先報導，標誌著中國企業首次實現浸潤式深紫外光（DUV）微影系統的國產化量產——這是在美國與荷蘭現行出口限制下，中國製造商所能取得的最先進晶片製造設備。ASML 股價由盤前上漲 2% 轉為收盤重挫，而美國設備製造商應用材料、科林研發及科磊則分別下跌約 5%、7% 與 4%。

「在美荷出口管制持續收緊之際，中國的 DUV 技術突破威脅到 ASML 在中國最大的剩餘營收來源，」Edgen 半導體供應鏈分析師 Rachel Kim 表示。「如果本土供應規模擴大，ASML 的中國訂單積壓與定價能力將隨時間推移而遭到壓縮。」

據知情人士透露，這家總部位於上海的製造商（因項目敏感性，其身分尚未公開）計劃今年交付約五台浸潤式 DUV 機器，到 2027 年擴大至約 20 台。潛在客戶包括中芯國際（SMIC）、華虹半導體以及長鑫存儲技術（CXMT），後者週一在中國上市首日表現驚人，股價飆漲超過五倍。

為什麼中國的 DUV 發展威脅 ASML 的中國業務

微影系統是半導體製造中技術難度最高的設備，負責將精密電路圖案蝕刻到矽晶圓上。ASML 主導全球市場，並且是先進晶片所需極紫外光（EUV）微影機的唯一供應商。在美國與荷蘭出口管制禁止 ASML 向中國銷售 EUV 系統後，中國晶片製造商大量囤購該公司舊一代的浸潤式 DUV 設備，使這類銷售成為 ASML 的重要營收來源。

ASML 第二季財報顯示，中國佔其淨系統營收的 14%，低於第一季的 19%。財務長 R.J.M. Dassen 此前曾預估，中國將貢獻全年淨銷售額約 20%——這項指引如今面臨重大不確定性。

根據報導，中國國產的 DUV 系統仍處於早期開發階段，在性能與可靠性上仍落後於 ASML 的設備。該技術在大規模商業部署前仍需進一步測試。而中國在 EUV 領域的發展更加落後，目前仍處於原型機階段，距離商業化還需要數年時間。

半導體設備供應鏈的連鎖效應

此波賣壓不僅限於 ASML，因為投資人將此技術突破解讀為對全球半導體設備產業的更廣泛威脅。應用材料、科林研發與科磊提供晶片製造過程中其他關鍵環節的設備——材料沉積、圖案蝕刻與缺陷檢測。如果中國成功開發出具競爭力的微影系統，市場參與者擔憂其餘供應鏈環節可能也將隨之跟上。

此消息發布的時間點，正值華盛頓方面推動更多限制措施。美國國會正在推進《MATCH 法案》，這項跨黨派立法旨在進一步限制中國從外國供應商購買或維護先進 DUV 設備的能力。如果中國製造商現在能夠自行生產這些機器，此類限制措施的效果可能不如原先預期。

對北京而言，開發本土微影設備自 2002 年以來一直是戰略重點，且在華盛頓於 2022 年收緊出口管制後加快了腳步。儘管中國的 DUV 國產產能與 ASML 的生產規模相比仍微不足道，但其發展軌跡已清晰可見：這個國家正在逐步減少對外國晶片製造設備的依賴，一步一腳印。

ASML 目前的本益比約為 28 倍（基於遠期盈餘）。該公司在中國的曝險——加上本土替代品可能逐漸侵蝕其 DUV 定價能力的風險——構成了一項結構性利空，而週一的賣壓才剛開始反映這一因素。對美國設備製造商而言，關鍵風險在於中國的本土化推廣是否會從微影設備快速擴展到沉積、蝕刻與檢測領域，從而削弱其在該地區的整體市場需求。

本文僅供參考，不構成投資建議。