上海埃斯納將於2026年生產5台國產DUV晶片設備

中國推動半導體自給自足的努力迎來里程碑，一家鮮為人知的國有企業開始量產浸沒式DUV微影機。

上海埃斯納電子科技集團已開始量產自主研發的浸沒式深紫外微影機，這是中國減少對荷蘭供應商艾斯摩爾依賴的重要里程碑。

摩根大通分析師在週二的報告中指出：「生產少量浸沒式DUV設備，與生產可用於大量製造、重視良率、套刻精度、產能及數千片晶圓運行可靠性的設備，是兩回事。」

據知情人士透露，成立於2023年8月、註冊資本達70億元人民幣（約10億美元）的埃斯納，計劃今年生產約5台設備，2027年則約20台。據《The Information》報導，這些設備預計將交付給中芯國際、華虹半導體及長鑫存儲。艾斯摩爾股價在週一首度報導後下跌4.6%，並於週二格林威治時間09:06再跌1.6%。

儘管中國國產的DUV設備仍遠不及艾斯摩爾的競爭機型，且需要進一步測試，但若成功部署，將為中國晶片製造商提供替代設備來源，以防西方政府進一步限制外國微影設備的出口或維修。

根據企業登記資料，埃斯納由上海電氣控股及上海國際信託旗下子公司支持成立，註冊資本70億元人民幣（約10億美元）。消息人士指出，該公司已整合來自微影新創公司「玉量盛」及「上海微電子裝備」的團隊；其中玉量盛去年已開始測試DUV原型機，且是華為支持的設備廠商新凱來的關聯企業。公司及招聘記錄顯示，埃斯納與玉量盛共用上海同一地址。

浸沒式DUV設備在投影鏡頭與矽晶圓之間使用一層水，藉此印製比傳統乾式系統更小的電路圖案。這類設備可用於生產廣泛的晶片，並可透過多重圖案化技術（需對同一層進行重複曝光）進一步製造更先進的半導體。

艾斯摩爾的陰影：16%營收岌岌可危

中國仍是艾斯摩爾重要的營收支柱，2026年上半年約占這家荷蘭巨頭淨銷售額的16%。儘管被禁止購買艾斯摩爾最先進的極紫外光系統，中國晶片製造商仍持續大量採購較不先進的DUV設備。

美國已禁止中國購買艾斯摩爾的EUV系統，而荷蘭的出口管制也限制取得部分先進DUV設備。路透社去年12月引述消息人士報導，中國已成功打造出一台EUV系統原型機，但距離量產仍需數年時間。

對投資人而言，艾斯摩爾近期的獲利影響似乎有限。艾斯摩爾股價年初至今已上漲12%，本益比為28倍。即便中國設備成功部署，仍需多年才能顯著侵蝕艾斯摩爾在規模達800億美元的微影設備市場中的市占率。

本文僅供資訊參考，不構成投資建議。